Filmes Finos de V2O5 dopados com Nb2O5.
Abstract
A presente dissertação propõe estudar filmes finos de pentóxido de vanádio (V2O5)
dopados com pentóxido de nióbio (V2O5:Nb2O5), preparados pelo processo sol-gel. Os
sóis foram obtidos utilizando etóxido de nióbio (Nb(OCH2CH3)5) e alcóxido de vanádio
(OV(OCH(CH3)2)3 – oxitriisopropóxido de vanádio) como precursores, isopropanol
como solvente e ácido acético glacial como catalisador. Os filmes finos foram
depositados pela técnica de dip coating sobre um substrato condutor eletrônico (FTO).
A partir disso, foi feito um estudo sistemático para a obtenção de filmes finos com as
propriedades eletroquímicas desejadas. Os filmes finos depositados foram
submetidos ao tratamento térmico de 350°C durante 30 minutos em atmosfera de ar.
Os filmes finos de V2O5 e V2O5:Nb2O5 foram estudados através de diferentes técnicas
eletroquímicas, tais como voltametria cíclica (VC), cronoamperometria (CA),
cronocoulometria (CC), espectroscopia de impedância eletroquímica (EIE) e
espectroscopia no UV-Vis. Para estudar a morfologia dos filmes, foram realizadas
medidas de microscopia eletrônica de varredura (MEV) e microscopia de força
atômica (MFA). O objetivo da dissertação foi preparar e caracterizar filmes finos com
propriedades eletrocrômicas e a sua possibilidade de utilizar esses filmes como
contra-eletrodo num dispositivo eletrocrômico.
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