"Preparação e caracterização de filmes finos eletrocrômicos de MoO3 pelo processo Sol-Gel."
Abstract
O objetivo do presente trabalho foi a preparação e a caracterização de filmes de molibdênio (V), obtidos via processo sol-gel. Os sóis destinados à deposição dos filmes foram preparados a partir da mistura de isopropóxido de molibdênio (V), álcool isopropílico (C3H8O) e acido acético glacial como catalizador e sua submissão à agitação magnética. A obtenção das camadas finas de MoO3, com diferentes espessuras (9 camadas), sobre um substrato de vidro recoberto com camada condutora eletrônica (ITO – óxido de estanho dopado com índio), foi realizada pelo processo sol-gel e a técnica de spin coating. Os filmes foram submetidos a um tratamento térmico a 350°C, em atmosfera de ar, por 30 minutos. As propriedades estruturais do xerogel de MoO3 foram caraterizadas por Raio-X (XRD) e espectroscopia no infravermelho (IR). As propriedades morfológicas do filme de MoO3 foram caracterizadas por Microscopia de Força Atômica (AFM) e Microscopia eletrônica de varredura (MEV). As medidas de transmitância ótica foram realizadas in-situ na região entre 350 e 800nm. O estudo efetuado revelou que estes filmes finos de MoO3, foram influenciados pelo número de camadas nas propriedades eletroquímicas. As medidas de voltametria cíclica demonstraram que o processo de inserção/extração é reversível. As medidas de Cronocoulometria , demonstraram que o processo de intercalação atinge o seu valor máximo (26 mC/cm2) em 15s a -1,5V. As medidas de impedância demostraram o comportamento difusional do filme paras baixas frequências. Todos estes resultados mostraram que os filmes de MoO3 são promissores na implementação de janelas eletrocrômicas.
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