Estudo de coeficiente de difusão de íons Li+ em filmes finos de V2O5:MoO3

dc.creator	Cholant, Camila Monteiro
dc.creator	Westphal, Talita Marth
dc.creator	Azevedo, Cristiane
dc.creator	Loi, Monique da Rocha
dc.creator	Balboni, Raphael Dorneles Caldeira
dc.creator	Avellaneda, César Antônio Oropesa
dc.date.accessioned	2025-11-12T12:42:04Z
dc.date.available	2025-11-12T12:42:04Z
dc.date.issued	2016
dc.identifier.citation	CHOLANT, Camila Monteiro et al. Estudo de coeficiente de difusão de íons Li+ em filmes finos de V2O5:MoO3. In: ENCONTRO DE PÓS-GRADUAÇÃO, 18, 2016. Anais... Pelotas: UFPel, 2016.	pt_BR
dc.identifier.uri	http://guaiaca.ufpel.edu.br/xmlui/handle/prefix/18512
dc.description.abstract	O presente trabalho apresenta um estudo do processo da difusão dos íons de Li+nos filmes finos de V2O5:MoO3 pela técnica PITT e, consequentemente, no uso da medida do coeficiente de difusão como uma ferramenta de caracterização do material, que tem o objetivo de otimizar dispositivos eletroquímicos armazenadores e fontes de energia elétrica, criados a partir destes eletrodos.	pt_BR
dc.language	por	pt_BR
dc.publisher	UFPel	pt_BR
dc.rights	OpenAccess	pt_BR
dc.subject	Difusão de íons	pt_BR
dc.subject	Filmes finos	pt_BR
dc.subject	Coeficiente de difusão	pt_BR
dc.title	Estudo de coeficiente de difusão de íons Li+ em filmes finos de V2O5:MoO3	pt_BR
dc.type	conferenceObject	pt_BR
dc.rights.license	CC BY-NC-SA	pt_BR