Estudo do comportamento dielétrico do filme fino eletrocrômico de V2O5:MoO3.

dc.creator	Cholant, Camila Monteiro
dc.creator	Krüger, Luana Uszacki
dc.creator	Balboni, Raphael Dorneles Caldeira
dc.creator	Schneider, Érika Vasques
dc.creator	Lemos, Rafaela Moreira Javier
dc.creator	Avellaneda, César Antônio Oropesa
dc.date.accessioned	2025-10-21T10:53:09Z
dc.date.available	2025-10-21T10:53:09Z
dc.date.issued	2020
dc.identifier.citation	CHOLANT, Camila Monteiro et al. Estudo do comportamento dielétrico do filme fino eletrocrômico de V2O5:MoO3. In: ENCONTRO DE PÓS-GRADUAÇÃO, 22, 2020. Anais... Pelotas: UFPel, 2020.	pt_BR
dc.identifier.uri	http://guaiaca.ufpel.edu.br/xmlui/handle/prefix/18195
dc.description.abstract	O presente trabalho investiga o comportamento dielétrico do filme fino de V2O5:MoO3 variando a temperatura.	pt_BR
dc.language	por	pt_BR
dc.publisher	UFPel	pt_BR
dc.rights	OpenAccess	pt_BR
dc.subject	Filmes finos	pt_BR
dc.subject	Óxido de vanádio	pt_BR
dc.subject	Dispositivos eletrônicos	pt_BR
dc.subject	Comportamento dielétrico	pt_BR
dc.title	Estudo do comportamento dielétrico do filme fino eletrocrômico de V2O5:MoO3.	pt_BR
dc.type	conferenceObject	pt_BR
dc.rights.license	CC BY-NC-SA	pt_BR